信越化学工業
シリコンウエハーで世界トップ級のシェアを持ち、半導体材料や塩ビを手掛ける総合化学メーカー
フォトレジストとは、光の照射によって化学的な性質が変化する感光性材料であり、半導体や電子部品の微細な回路パターンを形成する工程で使用される。ウェーハ表面に薄く塗布したフォトレジストへ光を照射し、現像によって必要な部分を残すことで、後工程のエッチングや材料形成に利用する微細なパターンを作る。光を当てた部分が溶けやすくなるポジ型と、溶けにくくなるネガ型などがある。先端半導体ではEUV露光に対応した材料が重要となり、解像度、感度、パターンの粗さ、欠陥発生率を高い水準で両立させることが求められる。近年は微細化に伴い、化学増幅型材料の改良や金属を含む新しい材料系の研究も進んでいる。一方、感度を高めるとパターン品質が悪化する場合があり、材料設計には複雑なトレードオフが存在する。露光装置の性能を実際の製造精度へつなげる重要な半導体材料
シリコンウエハーで世界トップ級のシェアを持ち、半導体材料や塩ビを手掛ける総合化学メーカー
半導体製造に不可欠なフォトレジストで世界トップ級のシェアを持ち、最先端の微細加工を支える化学材料メーカー
EUV向けフォトレジストなど最先端の半導体材料に強みを持ち、微細化を材料面から支える化学メーカー
写真フィルムで培った技術を基盤に、医療機器・医薬品製造受託・半導体材料・画像関連製品などを世界展開する総合技術企業
特殊合成ゴムや合成ラテックスを基盤に、高機能樹脂、光学フィルム、半導体材料、電池材料などを展開する