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#フォトレジスト5社

フォトレジストとは、光の照射によって化学的な性質が変化する感光性材料であり、半導体や電子部品の微細な回路パターンを形成する工程で使用される。ウェーハ表面に薄く塗布したフォトレジストへ光を照射し、現像によって必要な部分を残すことで、後工程のエッチングや材料形成に利用する微細なパターンを作る。光を当てた部分が溶けやすくなるポジ型と、溶けにくくなるネガ型などがある。先端半導体ではEUV露光に対応した材料が重要となり、解像度、感度、パターンの粗さ、欠陥発生率を高い水準で両立させることが求められる。近年は微細化に伴い、化学増幅型材料の改良や金属を含む新しい材料系の研究も進んでいる。一方、感度を高めるとパターン品質が悪化する場合があり、材料設計には複雑なトレードオフが存在する。露光装置の性能を実際の製造精度へつなげる重要な半導体材料