- 分野
- 半導体・電子デバイス › 半導体製造・検査装置
- 国
日本
- 上場
- 証券コード 6920
- 設立
- 1962年
- 本社
- 神奈川県横浜市
事業内容
EUVマスク検査という超ニッチ市場で圧倒的に強い。 EUVマスクブランクス欠陥検査装置は業界標準として採用され、EUV関連では世界で唯一の製品も持っている。●「露光のASML、検査のレーザーテック」という位置づけに近い。 最先端半導体を作るにはEUV露光が必要だが、マスクに微小な欠陥があると歩留まりに直結。その欠陥を高精度に発見する技術が同社の強み。●先行者利益が非常に大きい。 2017年にEUV光を使う量産対応マスクブランクス検査装置、2019年にはEUVパターンマスク検査装置を世界で初めて製品化。顧客と長年一緒に技術を磨いているため、後発企業が単に装置を開発すれば追いつける市場ではない。●研究開発に集中できる経営構造。 生産を外部委託するファブライト型で、社員の約7割がエンジニア。売上高の5~10%を研究開発に投じている。
注目する理由
AI半導体の高性能化と微細化が進むほど検査の重要性が高まる。2nm以降やHigh-NA EUVでは微細な欠陥が歩留まりを大きく左右するため、世界的に高シェアを持つEUVマスク検査装置の需要拡大が期待される。参入障壁が極めて高く、最先端半導体への投資拡大を高収益で取り込める点が中長期の成長力となる。
出典 lasertec-saiyo.jp
最終更新:2026年10月5日
最終更新:2026年10月5日