企169
キヤノン
- 国
日本
- 上場
- 証券コード 7751
- 設立
- 1937年
- 本社
- 東京都大田区
事業内容
2025年12月期の連結売上高は4兆6,247億円。プリンティングが売上高の約54%を占め、イメージング、メディカル、インダストリアルが続く。
半導体製造装置では、従来の露光装置に加え、樹脂に微細な回路パターンを転写するナノインプリント技術の実用化を推進。2026年1月には、この技術を応用したインクジェット方式のウェーハ平坦化技術を発表し、2027年の装置商用化を目指す。
また、先端後工程向けには大型パネル基板に対応する露光装置の開発を進める。
ASMLがEUV露光技術で先端半導体市場を主導するのに対し、キヤノンは既存のi線・KrF露光装置とナノインプリントという異なる技術経路を持つ。既存事業の収益力を維持しつつ、産業機器分野を成長させられるかが焦点となる
注目する理由
プリンターやカメラで培った精密光学・画像処理技術を半導体製造にも応用。ナノインプリントや先端パッケージ向け露光装置など、既存技術とは異なるアプローチで半導体製造の高度化に挑む
出典 global.canon
最終更新:2026年10月22日
最終更新:2026年10月22日